Father
千葉県流山市に在住、茨城から東京に転勤になり１年半あまり経って都内の社宅からこちらに越してきました。会社は港区にあり、入社以来初めての電車＆定期券での通勤です。茨城に居た頃は４輪駆動車で通勤していましたが、こちらに来てからは乗る機会もなく手放してしまい、奥さんの買い物車として買ったDAIHATSU製ストーリアから、子供らも成長し少し窮屈になってきたので転居を機会に買い替えたHONDA製モビリオに週末を中心に乗っています。
現在使っているコンピュータは、Apple PowerMacintosh 7600/120でメモリーは304MBに増設しています。ハードディスクも1.2GBでは足りなくなってきたので4.5GBのUltra Wide SCSI ハードディスク(IBM)を増設し、更に160GBのFW400インターフェース外部ハードディスク(LACIE)を増設しました。CPUも最初に604e/200MHzに交換し、今はG4/800MHz(SONNET)に交換ました。周辺機器は、ディスプレー(SONY 17fsII)、プリンタ(EPSON PM-950C)、スキャナ(EPSON GT-5000ART)、ZIPドライブ(FUJIFILM)とCD-R/RW(Logitec)です。PCIスロットにはラトックシステム製のファイヤーワイヤーとＵＳＢの両方のインターフェースが付いたカードを増設してあります。ＯＳは9.1です。Macの他にSHARP X68000があります。従って、我が家にはAppleのMacOS9とMicrowareのOS9の２つのOS9があります。MSX2+(SONY)とMZ80k(SHARP)は箱に入ったままでしたが、MSX2+は姫のオモチャになってしまいました。移動中でも論文が書けるようにB5判のPanasonic Let's Note（光学式トラックボールタイプ、CD-ROM付属、Windows98、MSOffice98付属）を購入しました。今は仕事で時々活躍しています。今年(2004 年)に入って、奥さん用にiBook G4/800を購入しました。メモリー：640MB、HDD：60GB、AirMac Extreme、USキーボード、OSはもちろんMacOS Xです。更にVPC+Windows2000をインストールしてあります。これでダイニングやリビングからいつでもWebに繋がるようになりました。
ホームページ作成には、5,000円程もする参考書を買いました。これは、ホームページ作成用ソフトが15,000円以上したので本の方が安いと思いこの方法を選びました。10個程のHTMLタグを覚えるだけで、それなりの形のものが出来てしまいました。しかし、効率化を考えてAdobe ImageStylerを購入しました。思ったほどは効果はありませんでした。ImageReadyの方が良かったかなと思っています。ホームページ製作に使用しているソフトは、TEXTeditorの「ＪＥＤＩＴ」、写真レタッチの「ＰｈｏｔｏＳｈｏｐＬＥ」とイメージ作成の「ＩｍａｇｅＲｅａｄｙ」です。
茨城時代から飼い始めた熱帯魚もこちらに引っ越してきてからは、部屋が狭くなったために十分な状況ではありません。中身についてはお魚のページを見て下さい（まだ製作途中ですが）。
ラジコンはまだここ暫くの所お休みです。
少し前、ディジタルカメラを購入しました。色々考えた末にNikonのCOOLPIX950に決めました。最近のものからするとスペックは見劣りしますが、実用上はなんら不満は有りません。特にマクロの性能は気に入っています。選択理由は以下の通りです。
  • 起動時間、メディアへの書き込み時間が短いこと（最近のものと比べると決して速くないでしょうけど）
  • ニッケル・水素電池とアルカリ電池など市販店で入手可能なバッテリーも併用可能なこと
  • マクロ機能が充実していること
  • レンズが本物であること
  • マニュアル設定が細かく出きること
1999年夏に茨城県の大洗海岸であった花火大会で花火を撮りました。作品としてはまだまだですが、いろんなものを撮っていきたいと思っています。庭の花の写真を撮り貯めているので、いずれ紹介したいと思います。
研究報告

やっとのことで論文を１報書きました。興味のある方は、読んでみて下さい。
ブラウザのフォント設定で「ページ指定のフォントを無視」と設定してある場合、文字化けを起こすようです。1.74ｵmは、1.74μmのことです。

Proposal of Near-Infrared Laser Diode Spectroscopy at 1.74ｵm for HCl Monitor in Semiconductor Processes

H. Masusaki, T. Satoh, A. Ubukata, S. Q. Wu, K. Matsumoto, H. Kuze and N. Takeuchi:
J. Vac. Soc. Jpn., 42 (1999) 31.

ABSTRACT
Near-infrared laser diode spectroscopy at 1.74 ｵm is applied to the detection of trace amounts of HCl in semiconductor process equipment such as an epitaxial growth reactor of Si. The application of the experimental system to different situations of HCl emissions is tested: the low pressure condition is employed for residual gas monitoring, while an atmospheric pressure condition is used for reaction by-product monitoring. The detection limit of a 50-cm-long path cell is 1 ppm at low pressure (1.07x104 Pa) and 100 ppm at atmospheric pressure. A wide dynamic range of 1 ppm to 1% and a linear response to the HCl concentration are also obtained, both of which are favorable for system integration to manufacturing processes.

掲載雑誌は日本名で「真空」です。内容はと言いますと「HCl（塩化水素）が吸収する波長の1.74ｵmで発振する半導体レーザを製作して、長さ50cmのサンプルセルを用いて全圧1.07x104 Paと1気圧の二つの条件で周波数変調吸収分光法でHClの濃度測定を行いました。目的は、Si（シリコン）のエピタキシャル成長装置のような半導体製造装置中の微量HClを測定するためです。小学校の理科で習うようにHClは水に溶けると塩酸となり腐食性を呈します。従って、HClが装置中に残留していたり（低圧での測定）、反応の副生成物として出てきたり（1気圧での測定）すると、装置を腐食して金属が反応中に混入し製品の品質を低下させます。この時の検出限界は、低圧の場合で1ppmで、1気圧の場合で100ppmでした。測定範囲としては、1ppmから1%まで直線性よく測定できました。」と、いうことです。これは、1997年にSan Joseで行われたAmerican Vacuum Society the 44th National Symposiumでの発表内容を基にまとめたものです。

何とか２報目を書きました。

「半導 体レー ザ分光 による ステン レス上 吸着水 とトリ クロロ シラン の不均一系反応の研究」
Study of Heterogenious Reaction between SiHCl3 and Adsorbed H2O on Stainless Steel Surface by Laser Diode Spectroscopy

H. Masusaki, T. Satoh, A. Ubukata, S. Q. Wu, K. Matsumoto, H. Kuze and N. Takeuchi:
J. Vac. Soc. Jpn., 42 (1999) 628.

ABSTRACT
HCl generation by heterogenious reaction between SiHCl3 and adsorbed H2O on a surface of SUS filter is measured by laser diode spectroscopy. H2O concentration on the filter surface is conditioned by heating up filter, followed by supplying HCl and H2O at the same time. This process prepares nearly mono-molecular H2O adsorption layer on the filter surface. The amount of HCl generated by SiHCl3 flow on the surface with H2O adsorption is 2 orders of magnitude higher than that expected by the reaction; 2SiHCl3 + H2O -> SiHCl2-O-SiHCl2 + 2HCl.
Furthermore, similar HCl generation is found when SiHCl3 is firstly used after cylinder installation with standard purging process. These results strongly suggests that a very small amount of H2O can initiate a chain reaction involving SiHCl3, which may brings about a hazardous by-products on semiconductor processes.
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